勻膠勻膠機(jī)的工藝特點(diǎn)

　　勻膠勻膠機(jī)是一種常見(jiàn)用于材料薄膜制備工藝的實(shí)驗(yàn)室設(shè)備，它的原理相對(duì)比較簡(jiǎn)單，利用電機(jī)高速旋轉(zhuǎn)時(shí)所產(chǎn)生的離心力使得試液或者膠液均勻地涂敷在基底材料的表面，顧名思義，一種可以“讓膠液均勻涂敷的機(jī)器”。
 

　　按自動(dòng)化程度可分為：
 

　　a)自動(dòng)勻膠設(shè)備；b)半自動(dòng)勻膠設(shè)備。
 

　　2按有無(wú)烘干方式分為：
 

　　a)帶烘干裝置的勻膠設(shè)備；b)不帶烘干裝置的勻膠設(shè)備。
 

　　3按加工基片幾何形狀可分為：
 

　　a)圓片勻膠設(shè)備；b)方片勻膠設(shè)備。
 

　　勻膠勻膠機(jī)的工藝特點(diǎn)要求硅片在托盤(pán)真空吸力的作用下隨主軸一起高速旋轉(zhuǎn)，因此勻膠托盤(pán)的幾何參數(shù)將對(duì)被吸附的硅片形變產(chǎn)生一定的影響，而過(guò)大的硅片形變將影響其表面形貌和平面度，從而影響光刻膠的均勻性。通過(guò)數(shù)值解和解析解，指出隨著勻膠膜厚的變薄，其受表面形貌的影響將增大；通過(guò)數(shù)學(xué)模型和計(jì)算機(jī)模擬分析了離心轉(zhuǎn)數(shù)等參數(shù)對(duì)旋涂性能的影響規(guī)律，并通過(guò)實(shí)驗(yàn)分析指出基底不平將直接導(dǎo)致涂膠均勻性變差，從而使集成電路芯片顯影后線條黑白比改變。

 

　　控制和顯示：
 

　　1.非常方便設(shè)定處理速度和加速度程序段；可設(shè)置順序循環(huán)控制；
 

　　2.顯示精度控制在設(shè)定值的0.006%以?xún)?nèi)；
 

　　3.操作者可隨時(shí)隨地自由實(shí)現(xiàn)人機(jī)交互。
 

　　勻膠勻膠機(jī)既然是科研開(kāi)發(fā)上制備薄膜材料*的方法之一使用者對(duì)于該設(shè)備大的期待就在于其能夠“均勻”地涂敷試液或者膠液。通常我們會(huì)用均一性和可重復(fù)性來(lái)衡量薄膜材料制備的好壞。
 

　　勻膠勻膠機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)：
 

　　*采用閉環(huán)控制伺服電機(jī)，數(shù)字式增速信號(hào)反饋，速勻準(zhǔn)確，壽命長(zhǎng)，保證勻膠均勻。
 

　　*5寸全彩觸摸屏，智能程序化可編程操控顯示，標(biāo)配10個(gè)勻膠梯度階段(速度和時(shí)間梯度設(shè)置)，可選配10個(gè)可編程程序，每個(gè)程序下可設(shè)置10個(gè)勻膠梯度階段，最多100個(gè)階段。
 

　　*內(nèi)置水平校準(zhǔn)裝置，限度的保證旋涂均勻，可對(duì)大小不同規(guī)格的基片進(jìn)行旋涂。
 

　　*多重安全保護(hù)
 

　　電磁安全開(kāi)關(guān)，蓋子打開(kāi)卡盤(pán)停止，保證安全；
 

　　蓋子自鎖功能，防止飛片蓋彈開(kāi)傷人；
 

　　雙重安全上蓋，聚四氟嵌鑲鋼化玻璃，避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人，限度保證實(shí)驗(yàn)人員安全。
 

　　*一機(jī)兩用，根據(jù)不同樣品可選真空吸盤(pán)和非真空卡盤(pán)兩種旋涂模式。
 

　　*不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體，PTFE旋涂腔體，聚丙烯(NPP-H)旋涂托盤(pán)，PTFE嵌鑲鋼化玻璃上蓋，耐酸堿防腐蝕，保證儀器在苛刻條件下仍能正常運(yùn)行。
 

　　*適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs，GaN，InP 等多種材料。