勻膠旋涂儀的工作流程概述

勻膠旋涂儀的勻膠過程包括滴膠，高速旋轉以及干燥(溶劑揮發)幾個步驟。

1、滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上，高速旋轉把光刻膠鋪展到基片上形成簿層，干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。

2、勻膠轉速是勻膠過程中重要的因素。基片的轉速不僅影響到作用于光刻膠的離心力，而且還關系到緊挨著基片表面空氣的*湍動和基片與空氣的相對運動速度。膜厚在很大程度上是作用于液體光刻膠上﹑方向朝基片邊緣的剪刀力與影響光刻膠粘度的干燥（溶劑揮發）速率之間平衡的結果。隨著光刻膠中溶劑不斷揮發，粘度越來越大，直到基片旋轉作用于光刻膠的離心力不再能使光刻膠在基片表面移動。到這個點上，膠膜厚度不會隨勻膠時間延長而變薄。

3、勻膠過程中基片的加速度也會對膠膜的性能產生影響。因為在基片旋轉的第一階段，光刻膠就開始干燥（溶劑揮發）了。所以準確控制加速度很重要。

4、勻膠過程中光刻膠的干燥速度不僅取決于光刻膠的自身性質，而且還取決于勻膠過程中基片周圍的空氣狀況。光刻膠的干燥速度與此相似，也受周圍環境條件的影響。勻膠的時候，減小基片上面的空氣的流動，以及因空氣流動引起的湍流，或者至少保持穩定也是十分重要的。

本公司提供的CIF勻膠旋涂儀有多重安全保護。電磁安全開關，蓋子打開卡盤停止，保證安全；蓋子自鎖功能，防止飛片蓋彈開傷人；雙重安全上蓋，聚四氟嵌鑲鋼化玻璃，避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人，*大限度保證實驗人員安全。