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    反應離子刻蝕機在半導體器件制造業中較為重要

    更新時間:2024-08-01       點擊次數:506
      反應離子刻蝕機(RIE),全稱為ReactiveIon Etching,是一種在半導體制造中廣泛使用的干法刻蝕技術。這項技術主要通過物理性和化學性的反應來實現對材料的準確刻蝕,以形成微細的電子結構。能夠實現較高的刻蝕精度,適用于微米甚至納米級別的圖案制作;該技術提供了良好的刻蝕方向性,有利于形成垂直側壁的微結構,這在半導體器件制造中較為重要;可以通過選擇合適的刻蝕氣體和調整工藝參數,實現對不同材料的選擇性刻蝕。
     
      -等離子體生成:在低真空環境中,刻蝕氣體在高頻電場的影響下產生輝光放電,氣體分子或原子被電離形成等離子體。
     
      -離子層形成:在平板電極間施加高頻電壓時,會形成數百微米厚的離子層,試樣置于其中,離子高速撞擊試樣進行化學反應刻蝕。
     
      -表面相互作用:等離子體中的活性物種與基材表面的原子或分子發生反應,通過這種相互作用實現材料的準確去除,形成所需的微結構。
     
      反應離子刻蝕機系統組成:
     
      -真空系統:確保操作過程中處于低真空環境,有助于等離子體的生成和維持。
     
      -供氣系統:向真空室中輸送特定的刻蝕氣體,這些氣體將在電場作用下生成等離子體。
     
      -控制系統:準確調控工藝參數如氣體流量、能量輸入、刻蝕時間等,以確??涛g過程的準確性和重復性。
     
      -計算機操作系統:現代的RIE設備通常配備計算機操作系統,用于實現復雜的工藝控制和數據管理。
     
      反應離子刻蝕機的應用領域:
     
      -半導體制造:在集成電路、微處理器、存儲器的生產中,用于形成電路圖案和微結構。
     
      -光電子設備:在LED、激光二極管等光電子設備的制造過程中,用于制備微光學元件和光波導。
     
      -MEMS技術:微機電系統(MEMS)的制造,如傳感器、執行器等,也廣泛采用RIE技術進行精密加工。
    反應離子刻蝕機
    華儀行(北京)科技有限公司
    地址:北京市豐臺區科興路7號國際企業孵化中心301室
    郵箱:cif_lab@163.com
    傳真:86-010-63752028
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